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单片湿法设备-金属剥离-Metal lift off
所属分类：
单片湿法设备
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单片湿法设备-金属剥离-Metal lift off
设备功能及信息概述：
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外形尺寸 |
长 x 宽x高(单位mm)=2470mmx2000mm×2130mm(分体进场，不同配置长度会变化) |
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设备重量 |
3600Kg |
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设备特点 |
特别针对强硬很难去除的光阻而设计，可长时、高温、循环、浸泡的槽式结构节省药液使用量提高光阻去除率，高压冲洗腔二次高效去除光阻（Max3000psi）, 筛网过滤大片的光阻搭配适合需求的过滤器的设计提高工艺能力，也避免过滤器的大量消耗，药液回收重复利用 |
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设备结构 |
LP+ Buffer station+ Soaking tank + Hijet Chamber+ Final Clean+ Regulator & Main Power Box (Buffer Tank Area) |
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清洗/蚀刻形式 |
干进干出 |
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干燥、控制形式 |
Spin +N2 Dryer、PC +PLC |
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安全性能 |
防漏、液位检测、wafer检测、防呆设计等配备齐全 |
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可靠性能 |
1. Particle remove rate ≥95%。2.No PR residue with 100xOM inspection。3.环境FFU过滤。4.循环过滤系统。5.全自动/手动扫码系统 |
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性能参数 |
电压：3相4线，AC208,50Hz；功率：约18Kw（视设备配置定）；CDA压力：5-7Kg/cm² |
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CDA流量：200-600LPM；PN2压力：5-7Kg/cm²；PN2流量：50-400LPM；排风量≥200Pa |
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